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用於大型 LCD 玻璃基板的近距曝光機   TME-750P / 950P

  • 用全自動近距曝光機適用於以近距系統為基礎的大量生產，最大可曝光 680 X 880 mm (TMP-950P) 的大型基板。

  • 實現完全非接觸的高精度閒隔設定，另外新開發的照明光學系統搭配新研發的修正機構，可實現高精度的謄寫。

  • 全自動運送基板、定位及曝光，支持高產量的優良操作性的線上功能。

  • 主要的性能

  TME-750P TME-950P
曝光方式 近距系統
清晰度

    7 µ m L&S (視近距系統及其它情況而定)
基板尺寸

最大 650 X 750 mm

最大 680 X 880 mm
膜板尺寸 最大 700 X 800 mm 最大 800 X 920 mm
照明度 25 m W/cm² (8kW 超高壓水銀燈) 26 m W/cm² (10kW 超高壓水銀燈)
照明均勻度 3.0% 以下
整機的總精度 ± 1.0 µ m
間隔測定範圍 70 ~ 300 µ m
間隔設定精度

   ± 5 µ m
處理能力

18 秒 / 枚以下 (不包括曝光時間)

21 秒 / 枚以下 (不包括曝光時間)
掩模組

自動
裝置的尺寸

3600(W) X 3000(D) X 2950 (H) mm

3600(W) X 3000(D) X 2950 (H) mm
裝置的重量 約 4000 kg 約 5000 kg
電源

3 相 200V  50/60 Hz
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