本近距曝光機是 R&D 的最佳配備。

支援 FPD 顯示板、電阻評量、光電裝置及微型機械等的廣泛應用，以至大量生產的產前準備。

本系統亦可用於深紫外線曝光，及為多種基板 (如高達 300 X 400毫米的玻璃基板及晶圓 ) 提供各種高精度曝光。

搭配 Windows NT^® 使用，R&D 近距曝光機更容易操作。